国家知识产权局信息显示，上海庆西自动化机电设备有限公司申请一项名为“一种用于光学元件的多场耦合高精度刻蚀方法及装置”的专利，公开号CN121578423A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供一种用于光学元件的多场耦合高精度刻蚀方法及装置，属于光学制造技术领域，方法包括：准备待刻蚀的光学元件与刻蚀液；进行酸洗前处理；将酸洗前处理后干燥的光学元件放入氢氟酸刻蚀槽中，加入刻蚀液，启动刻蚀程序，并通过调节兆声控制器的兆声频率精准匹配所需刻蚀深度、通过酸度计实时采集pH值并在浓度下降时补充氢氟酸保证刻蚀液浓度、通过恒温循环水控温系统和温度实现温度控制；进行酸洗后处理，得到干燥的刻蚀后光学元件。装置包括酸洗前处理系统、兆声湿法刻蚀系统和酸洗后处理系统。本发明通过多场协同控刻蚀，通过兆声、温度、浓度场耦合调控，刻蚀精度达±0.1μm、均匀性误差≤±0.05%，远超现有技术。
天眼查资料显示，上海庆西自动化机电设备有限公司，成立于2011年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，上海庆西自动化机电设备有限公司参与招投标项目3次，此外企业还拥有行政许可1个。
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作者：情报员
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